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日本excimer準分子光學處理系統(tǒng)E172 -70 光學測量儀

訪問次數(shù)：1125

更新日期：2024-03-23

簡要描述：

日本excimer準分子光學處理系統(tǒng)E172 -70
使用準分子紫外光源的光學表面處理可以對薄膜材料等易受熱影響的物體進行低溫表面處理，因為由于光源的特性，被照射物體的溫度不易升高。 此外，光化學反應不太可能損壞工件。

日本excimer準分子光學處理系統(tǒng)E172 -70 光學測量儀
品牌其他品牌產(chǎn)品種類臺式
數(shù)顯功能有溫控功能有
產(chǎn)地進口

日本excimer準分子光學處理系統(tǒng)E172 -70

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特征

  • 節(jié)省空間的臺式優(yōu)化

  • 快速處理時間

  • 僅AC100V電源

  • 配備定時器設(shè)置處理時間

  • 配備門聯(lián)鎖

  • 配備臭氧處理裝置

  • 無汞燈

  • 內(nèi)置高度調(diào)節(jié)平臺

高性能，簡單的基本設(shè)計。

使用準分子紫外光源的光學表面處理可以對薄膜材料等易受熱影響的物體進行低溫表面處理，因為由于光源的特性，被照射物體的溫度不易升高。 此外，光化學反應不太可能損壞工件。

應用示例

  • 潤濕性、親水性、親和力改善

  • 提高接合表面的附著力

  • 表面改性

  • 有機物分解、清洗

日本excimer準分子光學處理系統(tǒng)E172 -70

基本規(guī)格


產(chǎn)品名稱準分子紫外光處理機臺式實驗室規(guī)格
型號E172-70
波長172納米
光源艾西米燈 Φ18 x 120 mm
初始照度20mW/cm2以上
連續(xù)照明操作10分鐘內(nèi)（由于重量輕，風冷設(shè)計小）
外部尺寸195（寬）× 380（深） x480（高）毫米※
效用電源 AC100V 50/60Hz 2A
定期更換零件廢氣臭氧分解裝置建議1年或酌情更換
定期檢查高壓電源、光源等 5年或視情況而定




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